Modélisation et optimisation numérique de réacteurs CVD PDF Download
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LA DEPOSITION CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR CONCERNE LA CROISSANCE DE FILMS FINS A PARTIR DE PRECURSEURS SOLIDES EN PHASE GAZEUSE. UN GRAND NOMBRE DE REACTIONS CHIMIQUES SE PRODUISENT DANS LE VOLUME GAZEUX AINSI QU'A LA SURFACE DE CROISSANCE : LE SUBSTRAT. LA PREDICTION DES TAUX DE CROISSANCE ET DE L'UNIFORMITE DES FILMS QUE L'ON OBTIENT SONT DES PARAMETRES INDUSTRIELLEMENT IMPORTANTS. NOUS AVONS MENE UNE ETUDE NUMERIQUE SUR DES REACTEURS CVD EN 2D ET 3D POUR LA CROISSANCE DE FILMS FINS DE SILICIUM (SI) A PARTIR DU SILENE (SIH#4) ET UTILISANT L'HYDROGENE COMME GAZ PORTEUR. EN PARTICULIER, NOUS AVONS CONSIDERE LE REACTEUR HORIZONTAL AVEC SUBSTRAT CIRCULAIRE EN ROTATION ET LA PRISE EN COMPTE DE DEUX REACTIONS CHIMIQUES INCLUANT LES ESPECES SUIVANTES : H#2, SIH#4, SIH#2, SI#2H#6. CETTE ETUDE A ETE MENEE GRACE A UN LOGICIEL EN VOLUMES FINIS UTILISANT UNE METHODE DE RESOLUTION COLLOCATIVE AVEC L'ALGORITHME PISO. NOUS AVONS PU MONTRER L'INFLUENCE DES DEBITS DU GAZ PORTEUR, DE LA VITESSE DE ROTATION DU SUBSTRAT ET DE LA CONCENTRATION DES PRECURSEURS SUR LA CROISSANCE DES FILMS. CETTE ETUDE NUMERIQUE PERMET DORES ET DEJA D'OPTIMISER CE GENRE DE REACTEURS.
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LA DEPOSITION CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR CONCERNE LA CROISSANCE DE FILMS FINS A PARTIR DE PRECURSEURS SOLIDES EN PHASE GAZEUSE. UN GRAND NOMBRE DE REACTIONS CHIMIQUES SE PRODUISENT DANS LE VOLUME GAZEUX AINSI QU'A LA SURFACE DE CROISSANCE : LE SUBSTRAT. LA PREDICTION DES TAUX DE CROISSANCE ET DE L'UNIFORMITE DES FILMS QUE L'ON OBTIENT SONT DES PARAMETRES INDUSTRIELLEMENT IMPORTANTS. NOUS AVONS MENE UNE ETUDE NUMERIQUE SUR DES REACTEURS CVD EN 2D ET 3D POUR LA CROISSANCE DE FILMS FINS DE SILICIUM (SI) A PARTIR DU SILENE (SIH#4) ET UTILISANT L'HYDROGENE COMME GAZ PORTEUR. EN PARTICULIER, NOUS AVONS CONSIDERE LE REACTEUR HORIZONTAL AVEC SUBSTRAT CIRCULAIRE EN ROTATION ET LA PRISE EN COMPTE DE DEUX REACTIONS CHIMIQUES INCLUANT LES ESPECES SUIVANTES : H#2, SIH#4, SIH#2, SI#2H#6. CETTE ETUDE A ETE MENEE GRACE A UN LOGICIEL EN VOLUMES FINIS UTILISANT UNE METHODE DE RESOLUTION COLLOCATIVE AVEC L'ALGORITHME PISO. NOUS AVONS PU MONTRER L'INFLUENCE DES DEBITS DU GAZ PORTEUR, DE LA VITESSE DE ROTATION DU SUBSTRAT ET DE LA CONCENTRATION DES PRECURSEURS SUR LA CROISSANCE DES FILMS. CETTE ETUDE NUMERIQUE PERMET DORES ET DEJA D'OPTIMISER CE GENRE DE REACTEURS.
Author: Christian Breitsamter Publisher: Springer Science & Business Media ISBN: 3540444378 Category : Technology & Engineering Languages : en Pages : 428
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LE PROCEDE DE DEPOT CHIMIQUE A PARTIR D'UNE PHASE VAPEUR (CVD), PRESENTE UNE GRANDE IMPORTANCE DANS DE NOMBREUX SECTEURS INDUSTRIELS ET, EN PARTICULIER, POUR LA MICROELECTRONIQUE. LE BUT DE CE TRAVAIL ETAIT DE CONSTRUIRE UN MODELE REPRESENTANT LE FONCTIONNEMENT DES REACTEURS DE CVD, AXISYMETRIQUES, A PAROIS FROIDES. UN LOGICIEL, APPELE CWCVD, A AINSI ETE MIS AU POINT. IL PERMET DE DETERMINER LES DISTRIBUTIONS DES VITESSES D'ECOULEMENT DES GAZ, DE LEUR TEMPERATURE, ET DE LA CONCENTRATION DES DIFFERENTES ESPECES, REACTIFS OU PRODUITS DES REACTIONS, AU SEIN DE CE TYPE D'APPAREILS. CE LOGICIEL RESOUT LES EQUATIONS DE CONSERVATION DE LA QUANTITE DE MOUVEMENT, DE LA CHALEUR, ET DE CHAQUE ESPECE, COUPLEES AUX EQUATIONS DE VITESSE DE PRODUCTION OU DE CONSOMMATION PAR REACTIONS CHIMIQUES. DEUX APPLICATIONS PARTICULIERES ONT FAIT L'OBJET D'UNE ETUDE DETAILLEE. LA PREMIERE CONCERNE LA REGION D'ENTREE DANS UN FOUR TUBULAIRE A PAROIS CHAUDES, LA SECONDE, UNE CONFIGURATION AXISYMETRIQUE SIMPLE DE REACTEUR A CHAUFFAGE RAPIDE. DANS LES DEUX CAS, NOUS AVONS CONSIDERE LE DEPOT DE SILICIUM POLYCRISTALLIN PAR PYROLYSE DU SILANE. L'ANALYSE THEORIQUE ORIGINALE QUE NOUS AVONS EFFECTUEE, APPORTE UN GRAND NOMBRE D'INFORMATIONS INTERESSANTES SUR LE FONCTIONNEMENT DE CES DEUX REACTEURS. ELLE MET EN EVIDENCE LE ROLE, TOUT A FAIT DETERMINANT, JOUE PAR LES REACTIONS EN PHASE HOMOGENE QUI PRENNENT PLACE DANS LES GAZ CHAUDS, AVANT QU'ILS N'ATTEIGNENT LES SUBSTRATS, ET QUI CREENT DES ESPECES NOUVELLES. LA DISCUSSION DES RESULTATS NOUS A PERMIS DE MIEUX CERNER LES POSSIBILITES ET LES LIMITES DES DEUX TYPES D'EQUIPEMENTS QUE NOUS AVONS ETUDIES, ET AINSI, DE PRECISER LES DOMAINES D'APPLICATION OU ILS POURRAIENT ETRE LES PLUS UTILES. NOTRE TRAVAIL DEMONTRE TRES CLAIREMENT LES POSSIBILITES ACTUELLES ET L'INTERET POUR L'INDUSTRIE DE LA MODELISATION ET DE LA SIMULATION NUMERIQUE DU FONCTIONNEMENT DES REACTEURS DE CVD
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LE DEPOT CHIMIQUE A PARTIR D'UNE PHASE VAPEUR (CVD) EST UN PROCEDE DE GRANDE IMPORTANCE POUR LES INDUSTRIES DE LA MICROELECTRONIQUE. LES BUTS DE CE TRAVAIL ETAIENT D'ANALYSER ET DE MODELISER LE FONCTIONNEMENT DES REACTEURS DE CVD A BASSE PRESSION (LPCVD) DE TYPE TUBULAIRE HORIZONTAL A PAROI CHAUDE, L'UN DES APPAREILS LES PLUS UTILISES EN PRATIQUE. LES CAS TRAITES SONT CEUX DE DEPOT DE SILICIUM PUR OU DOPE IN SITU, PAR PYROLYSE DE SILANE. DEUX LOGICIELS DIFFERENTS ONT AINSI ETE CONSTITUES. LE PREMIER EST UN MODELE GLOBAL, QUI PERMET D'ANALYSER LA TOTALITE D'UN EQUIPEMENT ET QUI DETERMINE, A LA FOIS, LA DISTRIBUTION DE TEMPERATURE SUR LES PLAQUETTES A RECOUVRIR ET LA DISTRIBUTION DE LA VITESSE DE DEPOT. CE LOGICIEL EST PARTICULIEREMENT BIEN ADAPTE POUR LE TRAITEMENT DES DEPOTS DE SILICIUM PUR ET DE SILICIUM DOPE IN SITU AU BORE. LE SECOND LOGICIEL RESULTE D'UNE APPROCHE LOCALE ET BIDIRECTIONNELLE QUI EFFECTUE UN TRAITEMENT BEAUCOUP PLUS DETAILLE MAIS NE CONCERNE PLUS QU'UNE PARTIE REPRESENTATIVE DU REACTEUR. CES TRAVAUX ONT PERMIS DE PROGRESSER NETTEMENT DANS LA COMPREHENSION DES PHENOMENES COMPLEXES QUI SONT MIS EN JEU LORS DU DEPOT DE SILICIUM DOPE IN SITU AU PHOSPHORE. L'EXPLOITATION SYSTEMATIQUE DE CES DEUX PROGRAMMES DE SIMULATION NUMERIQUE ET LA CONFRONTATION DES RESULTATS DE CALCUL AVEC DES DONNEES EXPERIMENTALES SE SONT REVELEES RICHES D'ENSEIGNEMENT ET PERMETTENT D'ENVISAGER LA MISE AU POINT DE NOUVEAUX PROCEDES INDUSTRIELS TRES PERFORMANTS
Author: Ahmed Belasri Publisher: Springer Nature ISBN: 9811554447 Category : Technology & Engineering Languages : en Pages : 659
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This book highlights peer reviewed articles from the 1st International Conference on Renewable Energy and Energy Conversion, ICREEC 2019, held at Oran in Algeria. It presents recent advances, brings together researchers and professionals in the area and presents a platform to exchange ideas and establish opportunities for a sustainable future. Topics covered in this proceedings, but not limited to, are photovoltaic systems, bioenergy, laser and plasma technology, fluid and flow for energy, software for energy and impact of energy on the environment.
Author: Publisher: OECD Publishing ISBN: Category : Business & Economics Languages : en Pages : 562
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This publication sets out the findings of an international seminar, held in Aix-en-Provence, France in March 2004, which considered recent progress in the field of pellet-clad interaction in light water reactor fuels. It also reviews current understanding of relevant phenomena and their impact on the nuclear fuel rod under the widest possible conditions, and about both uranium-oxide and mixed-oxide fuels.
Author: Wade H. Shafer Publisher: Springer ISBN: 9780306341205 Category : Science Languages : en Pages : 320
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Masters Theses in the Pure and Applied Sciences was first conceived, published, and dis· seminated by the Center for Information and Numerical Data Analysis and Synthesis (CINDAS) *at Purdue University in 1957, starting its coverage of theses with the academic year 1955. Beginning with Volume 13, the printing and dissemination phases of the ac· tivity were transferred to University Microfilms/Xerox of Ann Arbor, Michigan, with the thought that such an arrangement would be more beneficial to the academic and general scientific and technical community. After five years of this joint undertaking we had concluded that it was in the interest of all concerned if the printing and distribution of the volume were handled by an international publishing house to assure improved service and broader dissemination. Hence, starting with Volume 18, Masters Theses in the Pure and Applied Sciences has been disseminated on a worldwide basis by Plenum Publishing Corporation of New York, and in the same year the coverage was broadened to include Canadian universities. All back issues can also be ordered from Plenum. We have reported in Volume 20 (thesis year 1975) a total of 10,374 theses titles from 28 Canadian and 239 United States universities. We are sure that this broader base for theses titles reported will greatly enhance the value of this important annual reference work. The organization of Volume 20 is identical to that of past years. It consists of theses titles arranged by discipline and by university within each discipline.
Author: Malika Naamoune
Author: Malika Naamoune
Author: Christian Breitsamter
Author: Sylvain Magnaudeix
Author: Catherine Azzaro-Pantel
Author: Ahmed Belasri
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Author: Wade H. Shafer
Author: S. C. Bhatia
Author: Jack Leland Daniel