Author: Ahmed MestariPublisher:
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Languages : fr
Pages : 276
Book Description
L'ELABORATION PAR DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR DE CERAMIQUES EN COUCHES MINCES DE CARBURE DE SILICIUM ENRICHI EN SILICIUM A ETE REALISEE A PARTIR DE TETRAETHYLSILANE COMME SOURCE UNIQUE DES DIFFERENTS CONSTITUANTS DU DEPOT. SA DECOMPOSITION ENTRE 900 ET 1000C A CONDUIT A DES MATERIAUX DONT LA TENEUR EN SILICIUM EST SUPERIEURE A 60%. POUR ENRICHIR DAVANTAGE EN SILICIUM, DE FAIBLES PRESSIONS PARTIELLES DE SILANE ONT ETE AJOUTEES A CE PRECURSEUR. CES CERAMIQUES SONT DESTINEES A LA PROTECTION CONTRE L'OXYDATION A HAUTE TEMPERATURE DE SUBSTRATS COMPOSITES CARBONE-CARBONE ET CARBONE-CARBURE DE SILICIUM. LA CARACTERISATION DE CE MATERIAU PAR SPECTROSCOPIE INFRA-ROUGE A REVELE DES LIAISONS SILICIUM-CARBONE AINSI QU'UNE MINORITE DE LIAISONS SILICIUM-HYDROGENE QUE L'ON RETROUVE SELON DES CONFIGURATIONS DIHYDRURES ET/OU TRIHYDRURES, CARACTERISTIQUES DE MODES DE SURFACE OU D'INTERFACE CONDUISANT A L'HYPOTHESE D'UNE MICROSTRUCTURE HETEROGENE. CETTE HYPOTHESE A ETE CONFORTEE PAR L'ETUDE DES PROPRIETES OPTIQUES ET PAR L'ANALYSE SPECTROSCOPIQUE DES PHOTOELECTRONS DES RAYONS X (X.P.S.). EN EFFET, L'IDENTIFICATION DE CARBONE LIBRE PAR S.P.S. A CONDUIT A DECRIRE LE MATERIAU SOUS FORME DE MATRICE AMORPHE SIXC1-X DANS LAQUELLE SONT NOYES DES AGREGATS DE CARBONE. CETTE MICROSTRUCTURE EST ILLUSTREE PAR LA FORMULE GENERALE CY(SIZC1-Z)1-Z OU (Y) REPRESENTE LA FRACTION VOLUMIQUE DU CARBONE LIBRE. CES FILMS PRESENTENT UNE RESISTANCE A L'OXYDATION MEDIOCRE MALGRE LEUR BONNE INFILTRATION AU SEIN DES POROSITES RESIDUELLES DES SUBSTRATS COMPOSITES, DUE AUX MICROFISURES TRAVERSANT L'EPAISSEUR DES FILMS. CEPENDANT, LEURS PERFORMANCES S'AMELIORENT SIGNIFICATIVEMENT LORSQUE LA TENEUR EN CARBONE LIBRE DIMINUE ET CELLE EN SILICIUM AUGMENTE, CE QUI A ETE OBTENU PAR L'ADDITION DE FAIBLES PRESSIONS PARTIELLES DE SILANE. DE PLUS, CES FISSURES ONT CONSIDERABLEMENT ETE COLMATEES PAR L'ADOPTION D'UN PROCED