Author: Guy PARATPublisher:
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Languages : fr
Pages : 123
Book Description
Réalisation de couches minces d'oxynitrure de silicium par dépôt chimique sous faible pression
Author: Guy PARATETUDE DU PROCEDE DE DEPOT DE COUCHES MINCES D'OXYDE DE SILICIUM EN PLASMA HELICON O#2/TEOS
Author: FREDERIC.. NICOLAZOPublisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 247
Book Description
CE MEMOIRE PRESENTE L'ETUDE DU PROCEDE D'ELABORATION DE COUCHES MINCES D'OXYDE DE SILICIUM DEPOSEES A TEMPERATURE AMBIANTE EN PLASMA DE MELANGE OXYGENE/TETRAETHOXYSILANE (TEOS), DANS UN REACTEUR RADIOFREQUENCE HAUTE DENSITE, BASSE PRESSION DE TYPE HELICON. CE REACTEUR FONCTIONNE EN COUPLAGE INDUCTIF POUR LES PUISSANCES SUPERIEURES A 300 WATTS, AVEC DE FORTES DENSITES ELECTRONIQUES ET DE FAIBLES POTENTIELS. L'ETUDE DES PLASMAS D'OXYGENE PAR SPECTROMETRIE DE MASSE ET SONDE DE LANGMUIR A PERMIS DE DETERMINER L'ION MAJORITAIRE ET LES CARACTERISTIQUES ELECTRIQUES DU PLASMA. IL EST MONTRE QUE L'ACTINOMETRIE PEU ETRE UTILISEE POUR MESURER LA DENSITE D'ATOMES D'OXYGENE. ON OBTIENT DES TAUX DE DISSOCIATION DE LA MOLECULE INFERIEURS A 10%. ON EN DEDUIT UN COEFFICIENT DE RECOMBINAISON DES ATOMES D'OXYGENE SUR LES PAROIS EN ACIER DE L'ORDRE DE 0,1. LA CONNAISSANCE DE LA DENSITE DU PLASMA ET DE LA CONCENTRATION DES ATOMES D'OXYGENE EN FONCTION DE LA PUISSANCE, DE LA PRESSION ET DE LA POSITION DANS LE REACTEUR A PERMIS DE DETERMINER LES FLUX DE PARTICULES ET DE DEFINIR DES CONDITIONS FAVORABLES AU DEPOT. L'INTRODUCTION DU TEOS DANS LES PLASMAS D'OXYGENE PROVOQUE UNE DIMINUTION DE LA DENSITE ET DE LA TEMPERATURE ELECTRONIQUE. LES SPECTRES D'EMISSION OPTIQUE SONT SOIGNEUSEMENT INDEXES. LES VARIATIONS DES INTENSITES D'EMISSIONS DES ESPECES DETECTEES SONT CORRELEES A LA MODIFICATION DE LA COMPOSITION DE LA COUCHE MINCE OBTENUE. LES FILMS DEPOSES SUR SILICIUM SONT CARACTERISES PAR ABSORPTION INFRAROUGE, ELLIPSOMETRIE SPECTROSCOPIQUE ET GRAVURE CHIMIQUE LIQUIDE (P-ETCH). LES OXYDES DE SILICIUM OBTENUS DANS LES MELANGES O2/TEOS SONT DE BONNE QUALITE POUR DES TAUX DE TEOS INFERIEURS A 0,1, LORSQUE LA CINETIQUE EST LIMITEE PAR LE FLUX DE PRECURSEUR SUR LA SURFACE. POUR LES TAUX PLUS ELEVES, LA VITESSE DE DEPOT SATURE ET LES ELEMENTS CARBONES SONT OBSERVES DANS LES COUCHES.
Préparation de couches minces d'oxynitrure de silicium par PECVD en vue de greffage chimique
Author: Jean-Marc ChovelonPublisher:
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Languages : fr
Pages : 105
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Le premier objectif de cette thèse est de déposer sur de la silice thermique une fine couche d'oxynitrure de silicium (sio#xn#yh#z préparée par pecvd (plasma enhanced chemical vapor deposition). Cette membrane doit être à la fois sensible aux protons et facilement modifiable par greffage chimique. De plus, elle devrait être une bonne barrière de diffusion. Il est possible de contrôler le nombre de sites de surfaces (si#2nh, sinh#2, sih) en faisant varier le débit des gaz utilisés lors de dépôt (sih#4, nh#3, n#2o) et de le vérifier par spectroscopie ir. La réponse au ph de la structure si/sio#2/sio#1#,#6#4n#0#,#4#1h#0#;#4#9 a été déterminée par des mesures c(v): 60 mv/ph. Apres un greffage chimique sur les sites sinh/nh#2 de longues chaines alkyles (c18) pour rendre la membrane insensible aux protons, la réponse au ph n'est plus que de 15 mv/ph. De plus une méthode d'impédance électrochimique a été proposée permettant de suivre la qualité de l'encapsulation des isfets. Nous avons travaillé en mode potentiostatique en superposant une tension sinusoïdale à fréquence variable. Avant le disfonctionnement des isfets, trois étapes ont pu être observées.
Contribution à la réalisation et à l'étude de couches minces par dépôt chimique en phase vapeur à partir du complexe bis 22'-bipyridine silicium
Author: Philippe PouvreauContribution à la réalisation et à l'étude de couches minces par dépôt chimique en phase vapeur à partir du complexe bis 2.2'-bipyridine silicium
Author: Philippe PouvreauETUDE DES OXYNITRURES DE SILICIUM EN COUCHES MINCES DEPOSES PAR PULVERISATION EN VUE D'APPLICATIONS OPTIQUES
Author: LAURENT.. PINARDPublisher:
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Category :
Languages : fr
Pages : 197
Book Description
CE TRAVAIL REPOSE SUR L'ETUDE DES COUCHES MINCES D'OXYNITRURES DE SILICIUM OBTENUES PAR PULVERISATION RADIO-FREQUENCE MAGNETRON REACTIVE EN VUE DE REALISER DES MULTICOUCHES OPTIQUES AYANT DE FAIBLES PERTES (ABSORPTION, DIFFUSION). TOUT D'ABORD, NOUS AVONS ANALYSE LES VARIATIONS DES PROPRIETES OPTIQUES ET PHYSICOCHIMIQUES DES MONOCOUCHES D'OXYNITRURES LIEES AUX DIFFERENTS PARAMETRES DU BATI DE DEPOT: LES PRESSIONS PARTIELLES DES GAZ, LA PUISSANCE RF, LA NATURE DE LA CIBLE ET DES GAZ. AINSI, LORSQUE L'ON DECRIT TOUTE LA GAMME DES OXYNITRURES DE L'OXYDE DE NITRURE, NOUS AVONS EN PARTICULIER MIS EN EVIDENCE L'EVOLUTION QUASI LINEAIRE DE L'INDICE SUR UN DOMAINE RELATIVEMENT IMPORTANT AINSI QUE LA SUBSTITUTION RIGOUREUSE DES ATOMES D'OXYGENE PAR LES ATOMES D'AZOTE: CECI EST LA PREUVE D'UN MECANISME SIMPLE DE FORMATION. DE PLUS, GRACE A DES ANALYSES PAR SPECTROPHOTOMETRIE IR, UN MODELE DE LA STRUCTURE AMORPHE DES OXYNITRURES A ETE PROPOSE (PSEUDO-BINAIRE OXYDE-NITRURE) ET VERIFIE PAR DEUX METHODES D'APPROXIMATION. ENFIN, UNE ETUDE PLUS PARTICULIERE DE L'ABSORPTION (PHOTOTHERMIE) ET DE LA DIFFUSION (DIFFUSOMETRE CASI) A ETE MENEE SUR LES MONOCOUCHES ET SUR LES MULTICOUCHES SYNTHETISES A PARTIR DES OXYNITRURES (ANTIREFLETS, MIROIRS). UNE COMPARAISON AVEC LES PERFORMANCES DES EMPILEMENTS CLASSIQUES D'OXYDES REALISES PAR PULVERISATION PAR FAISCEAUX D'IONS A PU ETRE FAITE ET NOUS AVONS AINSI PROPOSE DES SOLUTIONS POUR OPTIMISER LES DEUX SOURCES DE PERTES
Contribution à la réalisation et à l'étude de couches minces par dépôt chimique en phase vapeur à partir du complexe bis 2.2'-bipyridine silicium
Author: Philippe Pouvreau (auteur d'une thèse de sciences.)Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 174
Book Description
ETUDE DE LA CONDUCTION ET DE L'EFFET DE CHAMP DANS DES COUCHES DE SILICIUM POLYCRISTALLIN
Author: MOHAMMED.. EL KOOSYPublisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 144
Book Description
ETUDE DU COMPORTEMENT ELECTRIQUE DES RESISTANCES, CAPACITE MOS ET TRANSISTORS MOS REALISES DANS UNE COUCHE DE SILICIUM POLYCRISTALLIN DEPOSEE PAR DEPOT CHIMIQUE EN PHASE GAZEUSE SOUS FAIBLE PRESSION ET DOPEE PAR IMPLANTATION D'IONS BORE ET PHOSPHORE
ICREEC 2019
Author: Ahmed BelasriPublisher: Springer Nature
ISBN: 9811554447
Category : Technology & Engineering
Languages : en
Pages : 659
Book Description
This book highlights peer reviewed articles from the 1st International Conference on Renewable Energy and Energy Conversion, ICREEC 2019, held at Oran in Algeria. It presents recent advances, brings together researchers and professionals in the area and presents a platform to exchange ideas and establish opportunities for a sustainable future. Topics covered in this proceedings, but not limited to, are photovoltaic systems, bioenergy, laser and plasma technology, fluid and flow for energy, software for energy and impact of energy on the environment.
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