Gravure de la grille en silicium pour les filières CMOS sub-0,1μm PDF Download

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Gravure de la grille en silicium pour les filières CMOS sub-0,1μm

Author: Latifa El Kortobi-Desvoivres
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Ce travail de thèse s'inscrit dans le cadre des recherches avancées pour l'élaboration de la grille en silicium amorphe, pour les applications CMOS sub-0,1 μm. Cette étude a été menée sur la plate-forme de gravure du CNET, équipée de différents outils de caractérisation installés in situ. Dans un premier temps, nous avons développé un procédé de gravure à base de HBr/O2 permettant d'assurer une bonne anisotropie de gravure tout en ne générant aucun perçage de l'oxyde de grille très mince (