Author: Jean-François LegerPublisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 100
Book Description
Contribution a l'étude de la déposition chimique en phase gazeuse du molybdène sur le silicium et des réactions dans d'état solide entre ces deux éléments
Author: Jean-François LegerContribution à l'étude de la déposition chimique en phase gazeuse du molybdène sur le silicium et des réactions dans l'état solide entre ces deux éléments
Author: Jean-François LegerAnalyse et modélisation des dépots d'oxyde de silicium par procédé LPCVD
Author: Francine Fayolle (Chimiste)Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 215
Book Description
LE DEPOT CHIMIQUE A PARTIR D'UNE PHASE VAPEUR (CVD) EST LE PROCEDE LE PLUS UTILISE DANS L'INDUSTRIE MICRO-ELECTRONIQUE POUR REALISER DES COUCHES MINCES, EFFECTUEES LE PLUS SOUVENT DANS DES REACTEURS TUBULAIRES A MURS CHAUDS. L'UNE DES APPLICATIONS DE LA CVD EST LA FABRICATION DE COUCHES DE SILICIUM PARTIELLEMENT OXYDE, ET SEMI-ISOLANTES (APPELE SIPOS), A PARTIR D'UN MELANGE DE SILANE ET DE PROTOXYDE D'AZOTE. LA PREMIERE PARTIE DE CE TRAVAIL CORRESPOND A L'ETUDE ET L'ETABLISSEMENT D'UN SYSTEME CHIMIQUE COMPORTANT DEUX PHASES (GAZEUSE ET SOLIDE) ET REPRESENTATIF DU DEPOT. LES CONSTANTES CINETIQUES CORRESPONDANT AUX REACTIONS HOMOGENES SONT EVALUEES A PARTIR DE DIFFERENTES METHODES, EN PARTICULIER LA METHODE QRRK. LA SECONDE PARTIE COMPREND LE DEVELOPPEMENT ET L'UTILISATION DE DEUX LOGICIELS PERMETTANT DE MODELISER LES ECOULEMENTS ET LE TRANSFERT DE MATIERE DANS UN REACTEUR DE DEPOT DE SIPOS EN UTILISANT LE SYSTEME CHIMIQUE DECRIT PRECEDEMMENT. LE PREMIER LOGICIEL, CVD2 MODELISE UN ESPACE INTERPLAQUETTE. IL A PERMIS D'IDENTIFIER LES CONSTANTES DE DEPOT EN PHASE HETEROGENE. LE LOGICIEL CWCVD A PERMIS D'ETUDIER LA ZONE D'ENTREE DU REACTEUR. LES RESULTATS DE CES SIMULATIONS SONT COMPARES AVEC DES RESULTATS EXPERIMENTAUX OBTENUS A L'USINE MOTOROLA DE TOULOUSE. CEUX-CI SONT DETAILLES AINSI QUE LES METHODES D'ANALYSE UTILISEES. LE BON ACCORD OBTENU ENTRE LA SIMULATION ET LES EXPERIENCES PERMET DE VALIDER LES CHOIX EFFECTUES AU NIVEAU DU MECANISME CHIMIQUE ET D'AVANCER DANS LA COMPREHENSION DES PHENOMENES MIS EN JEU LORS DU DEPOT DE SIPOS. UNE DERNIERE PARTIE UTILISE LA METHODE QRRK POUR UN AUTRE TYPE DE DEPOT D'OXYDE, CETTE FOIS TOTALEMENT ISOLANT, A PARTIR D'UN MELANGE D'OXYGENE ET DE SILANE (LTO). LE TYPE DE REACTEUR DE DEPOT NE PERMETTANT PAS L'UTILISATION DIRECTE DES LOGICIELS DECRITS PRECEDEMMENT, SEULE UNE PREMIERE ANALYSE DU SYSTEME CHIMIQUE A PU ETRE EFFECTUEE
Contribution à l'étude de la diffusion dans les systèmes ternaires Molybdène-Silicium-Carbone et Molybdène-Silicium-Germanium
Author: Pierre SteinmetzPublisher:
ISBN:
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Languages : fr
Pages : 88
Book Description
La siliciuration superficielle est une méthode intéressante de protection du molybdène et de ses alliages contre l'oxydation à chaud. En effet, le traitement est facile à réaliser et les revêtements du disiliciure MoSi2 sont passivés dans un large domaine de température et de pression d'oxygène, grâce à la formation d'un film de silice. Si l'on excepte les risques d'accidents mécaniques provoquant la fissuration ou le décollement des revêtements, ce système de protection présente toutefois deux inconvénients : - il est thermodynamiquement instable et évolue par diffusion à l'état solide avec formation de composés intermédiaires [...] qui sont beaucoup plus oxydables que le disiliciure [...] ; - il résiste moins bien aux cycles thermiques qu'aux chauffages isothermes, probablement à cause de la différence entre les coefficients de dilatation du disiliciure et de la silice [...]. C'est en vue d'atténuer ces défauts que nous avons étudié des revêtements ternaires associant le silicium au carbone et au germanium.
Contribution à l'étude de la siliciuration du molybdène
Author: Bernard RoquesPublisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 157
Book Description
Notre travail aura été consacré essentiellement à des siliciurations de molybdène à l'état divisé. S'inscrivant dans une voie différente de celle envisagée à l'origine, il apporte, par contre, des précisions sur les processus qui peuvent intervenir dans différentes conditions de réaction entre molybdène et silicium. Dans une première partie de ce mémoire, nous avons rassemblé et précisé certaines propriétés des siliciures de molybdène et présenté les méthodes d'analyse mises au point pour cette étude. La deuxième partie comportera une étude des cinétiques d'homogénéisation de mélanges de poudres de molybdène et de silicium dans différentes conditions susceptibles de modifier les mécanismes réactionnels. Dans la troisième partie, seront précisés les processus impliqués dans la siliciuration du molybdène par des composés chlorés du silicium.
Contribution à la réalisation et à l'étude de couches minces par dépôt chimique en phase vapeur à partir du complexe bis 22'-bipyridine silicium
Author: Philippe PouvreauContribution à la réalisation et à l'étude de couches minces par dépôt chimique en phase vapeur à partir du complexe bis 2.2'-bipyridine silicium
Author: Philippe PouvreauContribution à l'étude des dépôts LPCVD de silicium polycristallin par pyrolyse de disilane. Cas du dopage in-situ au phosphore
Author: Jacques SimonPublisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 123
Book Description
LE SILICIUM POLYCRISTALLIN OU AMORPHE HYDROGENE EST UN MATERIAU TRES INTERESSANT, UTILISE EN MICRO-ELECTRONIQUE POUR LA REALISATION DE NOMBREUX DISPOSITIFS. L'ANALYSE DE LA PHASE GAZEUSE DE DECOMPOSITION A MIS EN EXERGUE L'IMPORTANCE DU ROLE DES REACTIONS CHIMIQUES EN PHASE HOMOGENE DANS LE MECANISME DE DISSOCIATION THERMIQUE DU DISILANE. L'AJOUT DE PHOSPHINE DANS LA PHASE GAZEUSE ENTRAINE DES MODIFICATIONS DE SA COMPOSITION. LES AVANTAGES APPORTES PAR L'UTILISATION DU DISILANE EN TERMES DE TEMPERATURE D'ELABORATION ET DE VITESSE DE CROISSANCE EN PRESENCE DE PHOSPHINE SONT MIS EN EVIDENCE ET CORRELES AVEC LA COMPOSITION DE LA PHASE GAZEUSE ET EN PARTICULIER AVEC LA QUANTITE DE RADICAUX SILYLENES PRESENTS. L'INFLUENCE DE DIVERS PARAMETRES TELS QUE LA TEMPERATURE, LA PRESSION TOTALE OU LA FRACTION MOLAIRE A ETE ETUDIEE AUX TRAVERS DE DEUX PLANS D'EXPERIENCES. LA POTENTIALITE DU DISILANE EN TANT QUE NOUVEAU PRECURSEUR GAZEUX DE SILICIUM EN REMPLACEMENT DU MONOSILANE A ETE DEMONTREE. DANS LE CAS DU DOMMAGE IN-SITU, IL PERMET L'OBTENTION DE FILMS AYANT LES MEMES PROPRIETES (CONCENTRATION EN DOPANTS, RESISTIVITE) AVEC UN TAUX D'INHIBITION DE LA VITESSE DE CROISSANCE BEAUCOUP PLUS FAIBLE
Contribution à la réalisation et à l'étude de couches minces par dépôt chimique en phase vapeur à partir du complexe bis 2.2'-bipyridine silicium
Author: Philippe Pouvreau (auteur d'une thèse de sciences.)Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 174
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Contribution à l'étude de la diffusion dans le système molybdène - carbone - silicium
Author: Pierre SteinmetzPublisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 100
Book Description
Notre travail a donc comporté les étapes suivantes : mise au point d'un procédé de carburation qui conduise à un revêtement du composé choisi ; étude de la siliciuration du molybdène carburé et comparaison avec celle du métal pur ; étude du comportement à température élevée de revêtements ainsi obtenus et comparaison avec la diffusion dans le couple Mo/MoSi2. Avant d'aborder ces études, nous rappellerons la constitution des systèmes Mo - Si, Mo - C, et Mo - C - Si.