Author: Société française de métallurgie
Publisher:
ISBN:
Category : Aluminium-lithium alloys
Languages : en
Pages : 964
Book Description
4th International Aluminium Lithium Conference
Author: Société française de métallurgie
Publisher:
ISBN:
Category : Aluminium-lithium alloys
Languages : en
Pages : 964
Book Description
Publisher:
ISBN:
Category : Aluminium-lithium alloys
Languages : en
Pages : 964
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Actes de la conference sur les methods de preparation et de conservation des molecules marquees Bruxelles, 13-16 novembre 1963
AGARD Conference Proceedings
Author: North Atlantic Treaty Organization. Advisory Group for Aerospace Research and Development
Publisher:
ISBN:
Category : Aerodynamics
Languages : en
Pages : 328
Book Description
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ISBN:
Category : Aerodynamics
Languages : en
Pages : 328
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Fourth International Conference on Liquid and Amorphous Metals, 7-11 Juillet 1980, Grenoble, France
Author: Françoise Cyrot-Lackmann
Publisher:
ISBN:
Category : Amorphous substances
Languages : en
Pages : 948
Book Description
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ISBN:
Category : Amorphous substances
Languages : en
Pages : 948
Book Description
Chimie en microélectronique
Author: LE TIEC Yannick
Publisher: Lavoisier
ISBN: 2746289180
Category : Chemical detectors
Languages : en
Pages : 386
Book Description
La microélectronique est un monde complexe dans lequel plusieurs sciences comme la physique, l’électronique, l’optique ou la mécanique, contribuent à créer des nano-objets fonctionnels. La chimie est particulièrement impliquée dans de nombreux domaines tels que la synthèse des matériaux, la pureté des fluides, des gaz, des sels, le suivi des réactions chimiques et de leurs équilibres ainsi que la préparation de surfaces optimisées et la gravure sélective de couches spécifiques. Au cours des dernières décennies, la taille des transistors s’est considérablement réduite et la fonctionnalité des circuits électroniques s’est accrue. Cette évolution a conduit à une interpénétration de la chimie et de la microélectronique exposée dans cet ouvrage. Chimie en microélectronique présente les chimies et les séquences utilisées lors des procédés de production de la microélectronique, des nettoyages jusqu’aux gravures des plaquettes de silicium, du rôle et de l’impact de leur niveau de pureté jusqu’aux procédés d’interconnexion des millions de transistors composant un circuit électronique. Afin d’illustrer la convergence avec le domaine de la santé, l’ouvrage expose les nouvelles fonctionnalisations spécifiques, tels que les capteurs biologiques ou les capteurs sur la personne.
Publisher: Lavoisier
ISBN: 2746289180
Category : Chemical detectors
Languages : en
Pages : 386
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La microélectronique est un monde complexe dans lequel plusieurs sciences comme la physique, l’électronique, l’optique ou la mécanique, contribuent à créer des nano-objets fonctionnels. La chimie est particulièrement impliquée dans de nombreux domaines tels que la synthèse des matériaux, la pureté des fluides, des gaz, des sels, le suivi des réactions chimiques et de leurs équilibres ainsi que la préparation de surfaces optimisées et la gravure sélective de couches spécifiques. Au cours des dernières décennies, la taille des transistors s’est considérablement réduite et la fonctionnalité des circuits électroniques s’est accrue. Cette évolution a conduit à une interpénétration de la chimie et de la microélectronique exposée dans cet ouvrage. Chimie en microélectronique présente les chimies et les séquences utilisées lors des procédés de production de la microélectronique, des nettoyages jusqu’aux gravures des plaquettes de silicium, du rôle et de l’impact de leur niveau de pureté jusqu’aux procédés d’interconnexion des millions de transistors composant un circuit électronique. Afin d’illustrer la convergence avec le domaine de la santé, l’ouvrage expose les nouvelles fonctionnalisations spécifiques, tels que les capteurs biologiques ou les capteurs sur la personne.
International Conference on the Physics of Metals, Amsterdam, 12-17 July 1948
Author: International Conference on the Physics of Metals, Amsterdam, 1948
Publisher:
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Category : Metals
Languages : en
Pages : 296
Book Description
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Category : Metals
Languages : en
Pages : 296
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International Conference on Residual Stresses
Author: G. Beck
Publisher: Springer Science & Business Media
ISBN: 9400911432
Category : Technology & Engineering
Languages : en
Pages : 1043
Book Description
Residual stresses are always introduced in materials when they are produced, or when they undergo non-uniform plastic deformation during use. The circumstances that can cause residual stresses are therefore numerous. Residual stresses exist in all materials and, depending on their distribution, can playa beneficial role (for example, compressive surface stress) or have a catastrophic effect, especially on fatigue behaviour and corrosion properties. The subject of residual stresses took form around 1970 with the development of methods to measure macroscopic deformations during the machining of materials or on an atomic scale by X-ray diffraction. These techniques have made considerable progress in the last 20 years. The meetings organized in several countries (Germany, France, Japan, etc. ) have largely contributed to this progress, aided by the numerous exchanges of information and knowledge to which they have given rise. Studies of the formation of residual stresses began more slowly, but have progressed with the emergence of increasingly realistic models of materials behaviour and with access to ever more powerful codes for numerical calculations. Two successive meetings for discussing this topic have been held in Europe. The first, held in 1982 in Nancy (France), consisted of 30 participants from 5 countries. The second was held in Linkoping (Sweden) in 1984, with 80 participants of 16 nationalities. It was decided to hold a first International Conference, ICRS, to address all aspects of the problem. Held in 1986 in Garmisch-Partenkirschen (FRG), it was an assembly of neady 300 participants from 21 countries.
Publisher: Springer Science & Business Media
ISBN: 9400911432
Category : Technology & Engineering
Languages : en
Pages : 1043
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Residual stresses are always introduced in materials when they are produced, or when they undergo non-uniform plastic deformation during use. The circumstances that can cause residual stresses are therefore numerous. Residual stresses exist in all materials and, depending on their distribution, can playa beneficial role (for example, compressive surface stress) or have a catastrophic effect, especially on fatigue behaviour and corrosion properties. The subject of residual stresses took form around 1970 with the development of methods to measure macroscopic deformations during the machining of materials or on an atomic scale by X-ray diffraction. These techniques have made considerable progress in the last 20 years. The meetings organized in several countries (Germany, France, Japan, etc. ) have largely contributed to this progress, aided by the numerous exchanges of information and knowledge to which they have given rise. Studies of the formation of residual stresses began more slowly, but have progressed with the emergence of increasingly realistic models of materials behaviour and with access to ever more powerful codes for numerical calculations. Two successive meetings for discussing this topic have been held in Europe. The first, held in 1982 in Nancy (France), consisted of 30 participants from 5 countries. The second was held in Linkoping (Sweden) in 1984, with 80 participants of 16 nationalities. It was decided to hold a first International Conference, ICRS, to address all aspects of the problem. Held in 1986 in Garmisch-Partenkirschen (FRG), it was an assembly of neady 300 participants from 21 countries.
1st International Laser M2P Conference
3rd International Conference on Mechanical and Physical Behaviour of Materials Under Dynamic Loading
Author:
Publisher:
ISBN:
Category : Deformations (Mechanics)
Languages : en
Pages : 988
Book Description
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Category : Deformations (Mechanics)
Languages : en
Pages : 988
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