Caractérisation d'un réacteur plasma de type résonance cyclotronique électronique à antenne longue PDF Download
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LE SUJET PORTE SUR LA CARACTERISATION D'UN REACTEUR PLASMA DE TYPE RCE DE GRANDE LONGUEUR. L'OUTIL DE DIAGNOSTIC EMPLOYE EST CONSTITUE D'UN ENSEMBLE DE SIX SONDES ELECTROSTATIQUES DE LANGMUIR REPARTIES LE LONG DU REACTEUR. DANS UNE PREMIERE PARTIE DU SUJET, NOUS AVONS PRESENTE LES DIFFERENTES ETAPES QUI ONT ABOUTI A LA MISE AU POINT DU SYSTEME AUTOMATIQUE D'ACQUISITION DE LA CARACTERISTIQUE I(V). AFIN DE POUVOIR UTILISER CE DIAGNOSTIC EN PLASMA DE DEPOT, NOUS NOUS SOMMES ATTACHES A DEVELOPPER UN SYSTEME D'ACQUISITION RAPIDE (2000 POINTS EN 0.33S) AUQUEL EST ADJOINT UN MODULE DE DEGAZAGE. UN PROGRAMME DE TRAITEMENT NUMERIQUE DE LA CARACTERISTIQUE RECUEILLIE A ETE DEVELOPPE. GRACE A CE DIAGNOSTIC QUE NOUS AVONS TOUT D'ABORD, EMPLOYE EN PLASMA D'ARGON, NOUS AVONS REUSSI A MIEUX CERNER LE FONCTIONNEMENT PARTICULIER DE NOTRE REACTEUR. LA PRESENCE D'UNE PISTE MAGNETIQUE ASSURANT LE CONFINEMENT DES ESPECES CHARGEES INDUIT UNE DERICE DES ELECTRONS ET DES IONS LE LONG DU REACTEUR. NOUS AVONS CONSTATE QUE SEULE LA CONFIGURATION DU REACTEUR PERMETTANT A LA DERIVE D'ENTRAINER LES ELECTRONS DANS LE SENS DE L'ATTENUATION DE L'ONDE CONDUIT A UNE CONDITION DE DECHARGE RELATIVEMENT HOMOGENE EN DENSITE. DANS LA BONNE CONFIGURATION, UNE REPARTITION CORRECTE DE LA DENSITE LE LONG DE L'ANTENNE EST CONDITIONNEE PAR UN COUPLE PRESSION-PUISSANCE. POUR REALISER DES COUCHES MINCES, NOUS AVONS EMPLOYE UN COMPOSE ORGANOSILICIE, L'HEXAMETHYLDISILOXANE (HMDSO). UNE CONDITION DE DECHARGE RELATIVEMENT HOMOGENE EN DENSITE N'ENTRAINE PAS UN DEPOT AUSSI UNIFORME LE LONG DU REACTEUR. IL SEMBLE QUE LA CINETIQUE DE CROISSANCE NE SOIT PAS SEULEMENT CORRELABLE A LA DENSITE DES ELECTRONS MAIS AUSSI A LEUR ENERGIE. DE PLUS, L'AGENCEMENT ACTUEL D'UNE PART DU SYSTEME DE POMPAGE ET D'AUTRE PART, DU SYSTEME D'INTRODUCTION DE GAZ, NE FAVORISENT PAS L'HOMOGENEITE DES DEPOTS. LES ANALYSES INFRAROUGES N'ONT PAS MONTRE DE MODIFICATIONS SIGNIFICATIVES DE LA COMPOSITION DES FILMS.
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LE SUJET PORTE SUR LA CARACTERISATION D'UN REACTEUR PLASMA DE TYPE RCE DE GRANDE LONGUEUR. L'OUTIL DE DIAGNOSTIC EMPLOYE EST CONSTITUE D'UN ENSEMBLE DE SIX SONDES ELECTROSTATIQUES DE LANGMUIR REPARTIES LE LONG DU REACTEUR. DANS UNE PREMIERE PARTIE DU SUJET, NOUS AVONS PRESENTE LES DIFFERENTES ETAPES QUI ONT ABOUTI A LA MISE AU POINT DU SYSTEME AUTOMATIQUE D'ACQUISITION DE LA CARACTERISTIQUE I(V). AFIN DE POUVOIR UTILISER CE DIAGNOSTIC EN PLASMA DE DEPOT, NOUS NOUS SOMMES ATTACHES A DEVELOPPER UN SYSTEME D'ACQUISITION RAPIDE (2000 POINTS EN 0.33S) AUQUEL EST ADJOINT UN MODULE DE DEGAZAGE. UN PROGRAMME DE TRAITEMENT NUMERIQUE DE LA CARACTERISTIQUE RECUEILLIE A ETE DEVELOPPE. GRACE A CE DIAGNOSTIC QUE NOUS AVONS TOUT D'ABORD, EMPLOYE EN PLASMA D'ARGON, NOUS AVONS REUSSI A MIEUX CERNER LE FONCTIONNEMENT PARTICULIER DE NOTRE REACTEUR. LA PRESENCE D'UNE PISTE MAGNETIQUE ASSURANT LE CONFINEMENT DES ESPECES CHARGEES INDUIT UNE DERICE DES ELECTRONS ET DES IONS LE LONG DU REACTEUR. NOUS AVONS CONSTATE QUE SEULE LA CONFIGURATION DU REACTEUR PERMETTANT A LA DERIVE D'ENTRAINER LES ELECTRONS DANS LE SENS DE L'ATTENUATION DE L'ONDE CONDUIT A UNE CONDITION DE DECHARGE RELATIVEMENT HOMOGENE EN DENSITE. DANS LA BONNE CONFIGURATION, UNE REPARTITION CORRECTE DE LA DENSITE LE LONG DE L'ANTENNE EST CONDITIONNEE PAR UN COUPLE PRESSION-PUISSANCE. POUR REALISER DES COUCHES MINCES, NOUS AVONS EMPLOYE UN COMPOSE ORGANOSILICIE, L'HEXAMETHYLDISILOXANE (HMDSO). UNE CONDITION DE DECHARGE RELATIVEMENT HOMOGENE EN DENSITE N'ENTRAINE PAS UN DEPOT AUSSI UNIFORME LE LONG DU REACTEUR. IL SEMBLE QUE LA CINETIQUE DE CROISSANCE NE SOIT PAS SEULEMENT CORRELABLE A LA DENSITE DES ELECTRONS MAIS AUSSI A LEUR ENERGIE. DE PLUS, L'AGENCEMENT ACTUEL D'UNE PART DU SYSTEME DE POMPAGE ET D'AUTRE PART, DU SYSTEME D'INTRODUCTION DE GAZ, NE FAVORISENT PAS L'HOMOGENEITE DES DEPOTS. LES ANALYSES INFRAROUGES N'ONT PAS MONTRE DE MODIFICATIONS SIGNIFICATIVES DE LA COMPOSITION DES FILMS.
Author: Pierre Chabert Publisher: ISBN: Category : Languages : fr Pages : 88
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REACTEUR EXPERIMENTAL DE GRAVURE PAR PLASMA, UTILISANT UNE DECHARGE MICROONDE EN CHAMP MAGNETIQUE A LA RESONANCE CYCLOTRONIQUE ELECTRONIQUE. APPLICATION A LA GRAVURE D'ECHANTILLONS DE SILICIUM AVEC MASQUE DE SILICE DANS UN PLASMA DE SF::(6), EN MODIFIANT D'UN ESSAI A L'AUTRE LA POLARISATION CONTINUE DU PORTE-SUBSTRAT, REGLEE EN REFERENCE AU POTENTIEL PLASMA. CES ESSAIS METTENT EN EVIDENCE LE FAIT QU'UNE FAIBLE VARIATION DU POTENTIEL DE L'ECHANTILLON PEUT AVOIR UN EFFET IMPORTANT SUR LES CARACTERISTIQUES DE GRAVURE, EN PARTICULIER EN CE QUI CONCERNE LA SELECTIVITE DE L'ATTAQUE DU SILICIUM PAR RAPPORT AU SIO::(2)
Author: Antoine Durandet Publisher: ISBN: Category : Languages : fr Pages : 0
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POUR LA REALISATION DE MOTIFS SUBMICRONIQUES, LA RESOLUTION N'EST DESORMAIS PLUS LE SEUL PROBLEME RENCONTRE. IL DEVIENT NECESSAIRE DE METTRE AU POINT DES PROCEDES CONDUISANT DE PLUS A UNE TRES BONNE UNIFORMITE, AINSI QU'A UN FAIBLE TAUX DE CONTAMINATION CHIMIQUE ET DE DEFAUTS INDUITS. DE TELS PROCEDES, AINSI QUE DES EQUIPEMENTS DE GRAVURE PLASMA PRESENTANT LES QUALITES REQUISES, PEUVENT ETRE REALISES AU MOYEN DES PLASMAS MULTIPOLAIRES MICRO-ONDE (P.M.M.). L'ASSOCIATION D'UNE EXCITATION MICRO-ONDE ET D'UNE STRUCTURE MULTIPOLAIRE DE CONFINEMENT CONDUIT A UNE TOTALE INDEPENDANCE DES PARAMETRES REGISSANT LA CREATION DU PLASMA DE CEUX CONTROLANT SON INTERACTION AVEC LA SURFACE A TRAITER. ALORS QU'ILS ETAIENT UTILISES POUR DES ETUDES FONDAMENTALES SUR LA GRAVURE, LES PMM SONT APPARUS COMME POUVANT DEVENIR DES EQUIPEMENTS INDUSTRIELS POUR LE TRAITEMENT DE SURFACE. DANS CE BUT, LES PERFORMANCES DE DEUX SOURCES MICRO-ONDES ONT ETE ETUDIEES: UNE SOURCE FONCTIONNANT EN RESONANCE CYCLOTRONIQUE ELECTRONIQUE (RCE); UNE DECHARGE ENTRETENUE PAR ONDE DE SURFACE. LES CARACTERISTIQUES DES PLASMAS AINSI CREES, DANS LA DECHARGE ET DANS LA ZONE DE DIFFUSION, ONT ETE RELEVEES, ET CES DEUX DISPOSITIFS ONT ETE ETUDIES POUR LA GRAVURE SUR LE COUPLE SILICIUM-FLUOR. CERTAINS INCONVENIENTS NOUS SONT ALORS APPARUS, DONT IL EST POSSIBLE DE S'AFFRANCHIR EN UTILISANT UN NOUVEAU DISPOSITIF MIS AU POINT AU LABORATOIRE: LA RESONANCE CYCLOTRONIQUE ELECTRONIQUE REPARTIE (RCER). LA RCER EST UN DISPOSITIF NOUVEAU BASE SUR L'UTILISATION D'APPLICATEURS FILAIRES OPERANT A LA RESONANCE CYCLOTRONIQUE ELECTRONIQUE, ET POSITIONNES LE LONG DES BARREAUX MAGNETIQUES DU CONFINEMENT MULTIPOLAIRE. IL EST AINSI POSSIBLE DE REALISER DES REACTEURS A PLASMA D'UNE GRANDE SOUPLESSE D'UTILISATION, ET DONT LES DOMAINES D'APPLICATION SONT ASSEZ VASTES.
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L'OBJECTIF DE CETTE THESE EST UNE MEILLEURE COMPREHENSION DES MECANISMES DE PRODUCTION ET DE DIFFUSION DU PLASMA DANS LES STRUCTURES A LA RESONANCE CYCLOTRONIQUE ELECTRONIQUE REPARTIE (RCER). LA PRODUCTION D'UN PLASMA UNIFORME N'EST POSSIBLE AVEC LES MICROONDES QUE PAR LE CHOIX D'UNE CONFIGURATION MAGNETIQUE PERMETTANT L'ETABLISSEMENT D'ONDES STATIONNAIRES D'AMPLITUDE CONSTANTE LE LONG DE LA STRUCTURE MULTIPOLAIRE. LA STRUCTURE RCERU, DANS LAQUELLE LA ZONE DE PROPAGATION DES MICROONDES EST DISSOCIEE SPATIALEMENT DE LA ZONE RCE D'ABSORPTION, PERMET AINSI DE PRODUIRE UN PLASMA DENSE ET UNIFORME AVEC DES PUISSANCES REDUITES D'UN FACTEUR DE L'ORDRE D'UNE DECADE POUR UNE MEME DENSITE. L'ETUDE EFFECTUEE DANS LE TERME SOURCE MET EN EVIDENCE L'EXISTENCE DE DEUX POPULATIONS ELECTRONIQUES A SAVOIR UNE POPULATION D'ELECTRONS CHAUDS ET UNE POPULATION D'ELECTRONS FROIDS ; L'EXISTENCE DE ZONES PRIVILEGIEES DE PRODUCTION ET DE DIFFUSION DES IONS A ETE CONFIRMEE PAR FLUORESCENCE INDUITE LASER QUI A PERMIS, EN OUTRE, DE MESURER LES VITESSES DE DIFFUSION ET DE DERIVE DES IONS DANS LA GAINE MAGNETIQUE MULTIPOLAIRE. CEPENDANT, LA DETERMINATION DE LA TEMPERATURE IONIQUE EST IMPOSSIBLE DANS LA ZONE DE FORTS CHAMPS MAGNETIQUES A CAUSE DE L'ELARGISSEMENT ARTIFICIEL DES RAIES PAR EFFET CYCLOTRONIQUE. CETTE ETUDE NOUS A CONDUIT A PROPOSER UN MODELE PHYSIQUE DE LA DIFFUSION DU PLASMA A PARTIR DE LA ZONE SOURCE. PAR AILLEURS, L'AUGMENTATION DE LA DENSITE CRITIQUE SUIVANT LE CARRE DE LA FREQUENCE D'EXCITATION DEMONTRE L'INTERET D'ACCROITRE CETTE DERNIERE POUR OBTENIR DES PLASMAS DENSES. ENFIN, L'APPLICATION DE CES PLASMAS A L'ETUDE PARAMETRIQUE DE LA GRAVURE DE LA SILICE EN PLASMA FLUORE A PERMIS DE VERIFIER QUE, LORSQUE LES PARAMETRES D'INTERACTION PLASMA-SURFACE SONT IDENTIQUES, LA CONFIGURATION DE LA SOURCE ET LA FREQUENCE D'EXCITATION NE MODIFIENT PAS DE FACON MESURABLE LES CINETIQUES DE GRAVURE. L'ENSEMBLE DES RESULTATS EXPERIMENTAUX OUVRE DES PERSPECTIVES POUR LA SIMULATION NUMERIQUE DE LA ZONE D'ACCELERATION DES ELECTRONS DANS UN CHAMP MAGNETIQUE ET HYPERFREQUENCE
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L'ETUDE D'UNE SOURCE DE PLASMA A EXCITATION MICRO-ONDES (MW), CHAUFFAGE A LA RESONANCE CYCLOTRONIQUE ELECTRONIQUE (RCE) ET CONFINEMENT MAGNETIQUE MULTIPOLAIRE (C.M.M.) AVAIT COMME BUT LA CREATION D'IONS H#- ET LA PRODUCTION D'UN PLASMA DENSE D'HYDROGENE ET D'ARGON, DANS LE PETIT (1,7 L) GENERATEUR ECRIN (ELECTRON CYCLOTRON RESONANCE IONS NEGATIFS). LE NOUVEAU DISPOSITIF EST FORME DE L'APPLICATEUR MW (2,45 GHZ, TE#1#0, CHAMP ELECTRIQUE MAXIMUM 240 V/CM A 500 W), D'AIMANTS PERMANENTS A L'ENTREE MW (ZONE RCE PRIMAIRE), DE LA CHAMBRE CYLINDRIQUE ECRIN (CAVITE MULTI-MODES) A C.M.M. (ZONE RCE SECONDAIRE) ET LE NOUVEAU SYSTEME D'ELECTRODES DE FORMATION, D'EXTRACTION ET D'ACCELERATION DU FAISCEAU DE PARTICULES NEGATIVES. LE REGIME D'ONDE STATIONNAIRE OBSERVE DANS H#2 A 4 MTORR, POURRAIT CORRESPONDRE A UNE TRANSITION ENTRE UN REGIME DE FONCTIONNEMENT D'ECRIN OU LE PLASMA A UN PROFIL RADIAL POINTU, ET UN REGIME A PROFIL PLAT, OU LA DENSITE EST QUASI-UNIFORME. LES TRANSITIONS ENTRE LES MODES HYBRIDES QUI APPARAISSENT DANS LE SYSTEME PROPAGATIF (ENCEINTE+PLASMA) NE PEUVENT PAS ETRE PREVUES EN RAISON DE LA DIFFICULTE DE FORMULER UN MECANISME DE LA DECHARGE, VU LE CARACTERE DYNAMIQUE NON-LINEAIRE DE L'IMPEDANCE DU PLASMA. LES PARAMETRES PLASMA SONT MESURES PAR SONDE ET PAR ANALYSEUR ELECTROSTATIQUE. DEUX POPULATIONS POUR LES ELECTRONS ET POUR LES IONS POSITIFS, D'ENERGIES ET DE TEMPERATURES DIFFERENTES, ONT ETE MISES EN EVIDENCE. CES RESULTATS ENCOURAGENT L'UTILISATION D'ECRIN COMME SOURCE D'IONS NEGATIFS H#- EN VOLUME. LA SPECTROSCOPIE D'EMISSION, LA FLUORESCENCE LASER SERAIENT NECESSAIRES POUR CARACTERISER LA DECHARGE. LE PHOTODETACHEMENT LASER (UNE APPROCHE HYBRIDE FLUIDE-CINETIQUE DE LA REPONSE D'UN PLASMA D'HYDROGENE AU PHOTODETACHEMENT LASER EST AUSSI PRESENTEE) ET LA SPECTROMETRIE DE MASSE POURRAIT CARACTERISER LES IONS H#-. ECRIN PEUT DEVENIR UN MODELE DE SOURCE COMPACTE DE PROTONS A LA RCE OU UN REACTEUR PLASMA MW POUR L'IMPLANTATION IONIQUE PAR FAISCEAU OU PAR IMMERSION
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DANS UNE MACHINE DE TYPE TOKAMAK, IL FAUT CHAUFFER LE PLASMA JUSQU'A UNE TEMPERATURE LIMITE A PARTIR DE LAQUELLE POURRONT SE DECLENCHER UN NOMBRE SUFFISANT DE REACTIONS DE FUSION. DE PLUS, POUR AVOIR UN REACTEUR, IL FAUT FONCTIONNER EN REGIME CONTINU. POUR RESOUDRE EN PARTIE CES PROBLEMES, ON ENVOIE DES ONDES A LA FREQUENCE HYBRIDE INFERIEURE QUI, TRANSFERANT LEUR ENERGIE AUX PARTICULES DU PLASMA, CREENT UN COURANT TOROIDAL. DES MESURES EXPERIMENTALES DE LA LOCALISATION SPATIALE ET DU PROFIL DE CE COURANT SEMBLENT EN CONTRADICTION AVEC LES PREVISIONS THEORIQUES. NOUS PROPOSONS DEUX METHODES DE DIAGNOSTIC DE CE COURANT PAR L'ENVOI D'ONDES VERIFIANT LA RELATION DE RESONANCE CYCLOTRON ELECTRONIQUE. LE PRINCIPE EST DE MESURER L'ATTENUATION DE CES ONDES DE FACON A RECONSTITUER LE PROFIL DE DENSITE DE COURANT. LA PREMIERE DES DEUX METHODES CONCERNE LE CAS DES PLASMAS PEU DENSES. ELLE CONSISTE EN L'ENVOI D'ONDES LE LONG DE CORDES VERTICALES DANS LE PLAN POLOIDAL. LE PROFIL DE DENSITE DE COURANT EST OBTENU APRES UNE INVERSION D'ABEL. DANS LA SECONDE METHODE, ADAPTEE A DES PLASMAS PLUS DENSES, L'ENVOI D'ONDES DANS LE PLAN EQUATORIAL ENTRAINE UNE REFRACTION. DANS CE CAS, L'INVERSION D'ABEL N'EST PAS UTILISABLE ET UNE NOUVELLE METHODE D'INVERSION NUMERIQUE A ETE MISE AU POINT. CES DEUX DIAGNOSTICS ONT ETE SIMULES NUMERIQUEMENT EN MODELISANT LE MIEUX POSSIBLE UN PLASMA DE TOKAMAK ET LE COMPORTEMENT DES ONDES VERIFIANT LA RESONANCE CYCLOTRON ELECTRONIQUE. NOUS MONTRONS QUE L'ACCORD ENTRE LES PROFILS DE DENSITE DE COURANT INITIAUX ET LES PROFILS RECONSTITUES EST TRES SATISFAISANT
Author: Antoine Durandet Publisher: ISBN: Category : Languages : en Pages : 235
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POUR LA REALISATION DE MOTIFS SUBMICRONIQUES, LA RESOLUTION N'EST DESORMAIS PLUS LE SEUL PROBLEME RENCONTRE. IL DEVIENT NECESSAIRE DE METTRE AU POINT DES PROCEDES CONDUISANT DE PLUS A UNE TRES BONNE UNIFORMITE, AINSI QU'A UN FAIBLE TAUX DE CONTAMINATION CHIMIQUE ET DE DEFAUTS INDUITS. DE TELS PROCEDES, AINSI QUE DES EQUIPEMENTS DE GRAVURE PLASMA PRESENTANT LES QUALITES REQUISES, PEUVENT ETRE REALISES AU MOYEN DES PLASMAS MULTIPOLAIRES MICRO-ONDE (P.M.M.). L'ASSOCIATION D'UNE EXCITATION MICRO-ONDE ET D'UNE STRUCTURE MULTIPOLAIRE DE CONFINEMENT CONDUIT A UNE TOTALE INDEPENDANCE DES PARAMETRES REGISSANT LA CREATION DU PLASMA DE CEUX CONTROLANT SON INTERACTION AVEC LA SURFACE A TRAITER. ALORS QU'ILS ETAIENT UTILISES POUR DES ETUDES FONDAMENTALES SUR LA GRAVURE, LES PMM SONT APPARUS COMME POUVANT DEVENIR DES EQUIPEMENTS INDUSTRIELS POUR LE TRAITEMENT DE SURFACE. DANS CE BUT, LES PERFORMANCES DE DEUX SOURCES MICRO-ONDES ONT ETE ETUDIEES: UNE SOURCE FONCTIONNANT EN RESONANCE CYCLOTRONIQUE ELECTRONIQUE (RCE); UNE DECHARGE ENTRETENUE PAR ONDE DE SURFACE. LES CARACTERISTIQUES DES PLASMAS AINSI CREES, DANS LA DECHARGE ET DANS LA ZONE DE DIFFUSION, ONT ETE RELEVEES, ET CES DEUX DISPOSITIFS ONT ETE ETUDIES POUR LA GRAVURE SUR LE COUPLE SILICIUM-FLUOR. CERTAINS INCONVENIENTS NOUS SONT ALORS APPARUS, DONT IL EST POSSIBLE DE S'AFFRANCHIR EN UTILISANT UN NOUVEAU DISPOSITIF MIS AU POINT AU LABORATOIRE: LA RESONANCE CYCLOTRONIQUE ELECTRONIQUE REPARTIE (RCER). LA RCER EST UN DISPOSITIF NOUVEAU BASE SUR L'UTILISATION D'APPLICATEURS FILAIRES OPERANT A LA RESONANCE CYCLOTRONIQUE ELECTRONIQUE, ET POSITIONNES LE LONG DES BARREAUX MAGNETIQUES DU CONFINEMENT MULTIPOLAIRE. IL EST AINSI POSSIBLE DE REALISER DES REACTEURS A PLASMA D'UNE GRANDE SOUPLESSE D'UTILISATION, ET DONT LES DOMAINES D'APPLICATION SONT ASSEZ VASTES
Author: Wade H. Shafer Publisher: Springer ISBN: 9780306341205 Category : Science Languages : en Pages : 320
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Masters Theses in the Pure and Applied Sciences was first conceived, published, and dis· seminated by the Center for Information and Numerical Data Analysis and Synthesis (CINDAS) *at Purdue University in 1957, starting its coverage of theses with the academic year 1955. Beginning with Volume 13, the printing and dissemination phases of the ac· tivity were transferred to University Microfilms/Xerox of Ann Arbor, Michigan, with the thought that such an arrangement would be more beneficial to the academic and general scientific and technical community. After five years of this joint undertaking we had concluded that it was in the interest of all concerned if the printing and distribution of the volume were handled by an international publishing house to assure improved service and broader dissemination. Hence, starting with Volume 18, Masters Theses in the Pure and Applied Sciences has been disseminated on a worldwide basis by Plenum Publishing Corporation of New York, and in the same year the coverage was broadened to include Canadian universities. All back issues can also be ordered from Plenum. We have reported in Volume 20 (thesis year 1975) a total of 10,374 theses titles from 28 Canadian and 239 United States universities. We are sure that this broader base for theses titles reported will greatly enhance the value of this important annual reference work. The organization of Volume 20 is identical to that of past years. It consists of theses titles arranged by discipline and by university within each discipline.
Author: Lucile Mage
Author: Lucile Mage
Author: Pierre Chabert
Author: Antoine Durandet
Author: THIERRY.. LAGARDE
Author: CARMEN-IULIANA.. CIUBOTARIU
Author: XAVIER.. CARON
Author: Antoine Durandet
Author: Clayton R. Paul
Author: Wade H. Shafer