Analyse physique de transistors à effet de champ pour applications hyperfréquences, à l'aide de modèles macroscopiques bidimensionnels PDF Download

Author: Michel Rousseau
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : en
Pages : 50

Get Book

Book Description
Ce mémoire présente une synthèse des résultats scientifiques obtenus au cours de quatre thèses co-dirigées. Ce travail a été réalisé à l'IEMN, dans le groupe de recherche 'Composants et dispositifs micro-ondes de puissance'. Ces travaux ont pour but de faire une analyse physique des transistors à effet de champ destinés à l'amplification microonde de puissance, à l'aide de modèles macroscopiques bidimensionnels. Différents modèles spécifiques ont été développés, chacun correspondant à un objectif précis. Tous ces modèles ont été validés, la plupart du temps par des comparaisons avec les résultats expérimentaux. Une fois validé, chaque modèle devient un outil permettant l'analyse physique de composants, très utile pour le technologue car capable d'aider à l'optimisation de structures. Le premier chapitre est consacré à l'élaboration d'un modèle hydrodynamique complet, prenant en compte les effets inertiels. Pour ce faire il faut inclure dans le modèle la résolution des équations du moment. Un certain nombre d'améliorations du modèle ont été effectuées à ce moment-là, comme par exemple la modélisation des interfaces que sont les hétérojonctions et la grille Schottky. Au cours de ce travail, nous avons montré que pour des transistors à effet de champ en arséniure de gallium il devient nécessaire d'utiliser un modèle hydrodynamique complet dès que la longueur de grille devient inférieure à 0,5 μm, sinon on surestime de façon importante le courant circulant entre drain et source, car on surestime le phénomène de survitesse. Le deuxième chapitre est consacré à l'analyse du claquage par avalanche dans les pHEMTs de la filière GaAs. Cette étude a demandé le développement d'un modèle bipolaire incluant la génération par impact. Différentes topologies du fossé de grille ont été étudiées, d'où il ressort que la topologie la plus intéressante est celle à double fossé de grille, et que l'optimisation du double fossé de grille dépend de la classe de fonctionnement. Nous avons également montré que pour réduire le courant de grille, il est préférable de n'utiliser qu'un seul plan de dopage. Le troisième chapitre décrit les travaux les plus récents, consacrés à la filière des matériaux à grande largeur de bande interdite. Une première analyse concerne les effets thermiques particulièrement marqués dans cette filière. Pour cela, un modèle électro-thermique a été mis au point. Nous avons ainsi expliqué la saturation du courant observée sur des motifs de type TLM réalisés sur des épitaxies de la filière nitrure de gallium; celle-ci est observée pour des champs électriques bien inférieurs au champ critique de ce matériau. L'influence du substrat sur la température de la zone active a également été étudiée. Cet outil est capable de prévoir quel sera l'échauffement de la structure pour un substrat donné, et d'évaluer quelles seront les pertes de performances du composant, du fait de cet échauffement. L'autre étude est consacrée à l'analyse des électrodes de champ plat, utilisées pour augmenter les tensions de claquage. Le mécanisme d'étalement du champ électrique a été mis en évidence ainsi que l'étalement de l'énergie. Les conséquences sur les éléments du schéma équivalent petits signaux ont également été étudiées. On a donc un modèle capable de permettre l'optimisation de ces électrodes de champ plat.